新一期《光学学报》发表特邀综述，透露我国EUV光刻物镜系统光学设计进展
国内光学领域的权威杂志《光学学报》第43卷第15号（网络出版2023 - 08 - 15）登载题为《极紫外***曝光系统光学设计研究与进展》的特别邀请，发表了一篇论述，北京理工大学光电学院光电影像技术及系统教育部重点实验室李燕（艳秋组对国内外相关科研进展，发表了一篇论述。
论文介绍说，2002年，中国科学院长春光学精密机械及物理研究所研制出国内最早由schwarzschild物镜组成的euv光角原理实验装置，实现了0.75米特征大小的曝光。2017年，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所开发了小时矿场euv暴露光学系统，报告显示由双面反光镜组成的投影物镜波谱差rms优于0.75纳米。建立了euv静止曝光装置，获得了32纳米线宽的光刻胶曝光图形。建立了euv***核心技术验证及工程测试平台。
对于euv物镜系统设计，本论文评价说，国内对均匀率euv光角物镜系统设计进行了很多研究。目前物镜系统的光学设计已达到国际先进水平。变化倍率光角物镜的光学设计在国内外都处于深入研究阶段。北京理工大学和中国科学院长春光学精密机械及物理研究所对na为0.33和na为0.55的euv曝光系统的光学设计进行了长期的深入研究，设计方法和效果可以与国际上已经公开的同类设计相媲美。
综述总结，目前在国内的研究中，物镜聚焦系统和照明系统的设计，误差分析暴露；热变形分析及控制研究系统北京理工大学和中国科学院长春光学精密机械与物理研究所高性能很久euv照片大物及照明系统的设计研究，智慧及有效的国际公布的同类设计类似的水平，中国的euv的***的研制打下了良好的基础，培养了大量的人才。
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论文介绍说，2002年，中国科学院长春光学精密机械及物理研究所研制出国内最早由schwarzschild物镜组成的euv光角原理实验装置，实现了0.75米特征大小的曝光。2017年，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所开发了小时矿场euv暴露光学系统，报告显示由双面反光镜组成的投影物镜波谱差rms优于0.75纳米。建立了euv静止曝光装置，获得了32纳米线宽的光刻胶曝光图形。建立了euv***核心技术验证及工程测试平台。
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综述总结，目前在国内的研究中，物镜聚焦系统和照明系统的设计，误差分析暴露；热变形分析及控制研究系统北京理工大学和中国科学院长春光学精密机械与物理研究所高性能很久euv照片大物及照明系统的设计研究，智慧及有效的国际公布的同类设计类似的水平，中国的euv的***的研制打下了良好的基础，培养了大量的人才。
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