三星携手ASML开发下一代EUV光刻机方面的合作
据报道，三星正寻求加强与荷兰半导体设备制造商asml的技术和投资合作。
该报道称，包括ceo peter burnink在内的asml高管于上周访问了三星的半导体工厂，讨论了在euv光刻机供应和开发方面的合作。
asml高管与三星副董事长金基南进行了会谈。业内人士认为，三星在此次会谈中要求asml供应更多的euv光刻机，并讨论了双方在开发下一代euv光刻机方面的合作。
据悉，三星需要更多的euv光刻机来扩大其在全球晶圆制造市场的份额。然而，作为世界上唯一的euv光刻机制造商，asml向台积电提供的设备要多于三星。
因此三星希望与asml建立技术联盟，以确保下一代euv光刻机的供应。对于asml来说，与三星的投资合作是必要的，因为开发下一代euv光刻机需要大量投资。
该报道指出，三星希望投资开发高数值孔径的euv光刻机，以提高半导体微制造所需的电路分辨率。该设备的价格预计为每台5000亿韩元，比目前的euv设备高出2到3倍。asml计划在2023年年中推出该设备的原型，三星则希望优先获得asml的供应，以在技术上领先台积电。
不过，三星一位官员表示，会议并没有做出具体的投资决定。他说，asml高管到访三星是为了回应李在镕10月份访问asml总部。
另有消息称，asml的高管此次还会面了sk海力士总裁李石熙，双方讨论了扩大uv设备供应和促进合作的途径。
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