ASML将在2019年推出产能更高的新型号TwinscanNXE
2017年出货11台，2018年出货18台，asml（阿斯麦）上周表示，计划在2019年出货30台euv光刻机。
目前，asml占有全球光刻机市场70%的份额，远远领先尼康。更重要的是，仅荷兰asml有能力制造和出货euv光刻机，尼康的最高技术水平还停留在arf氟化氩沉浸式光刻机。
与此同时，asml将在2019年推出产能更高的新型号twinscan nxe： 3400c，取代现款售价1.2亿美元（约合8亿）的twinscan nxe： 3400b。3400c的每小时晶圆雕刻能力从155片提升至170片，换装cymer公司的340w光源。
资料显示，截至去年7月，全球各公司、研究机构等总共仅安装了31台euv光刻机。不过，遗憾的是，迄今，大规模使用euv（极紫外光刻）技术的先进工艺仍未量产，三星7nm lpp理论上进度最快，但当下仅限于在s3工厂小规模投产，年底位于韩国华城、投资6万亿韩元（约合362亿元）的工厂竣工后，将是三星7nm euv主力厂。
另外，台积电的第二代7nm也将在非关键步骤上采用euv技术，intel、sk海力士也都对euv光刻机有强烈需求。
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