suss microoptics(smo)通过使用反应离子刻蚀(reactive ion etching,rie)技术,将所需结构转移到基板上,在晶圆级别的硅和熔融石英材料上定制成微光学元件。这种晶圆级别的生产技术提供了优良的分辨率和均匀性,并能够很好的整合例如沟槽,微腔、基座、对准点和识别标记等多种微结构。同时元件也可以根据需求镀增透膜或金属化。除此之外,smo还可以提供设计支持、可行性研究、原型制作和批量生产等完整服务。公司已通过国际标准iso 9001和iatf 16949(汽车产业)认证。
微透镜阵列的工艺简述
光刻厚膜光刻胶经过优化后用于掩膜对准***。曝光区域变成透明,并将曝光光线线性引导至更深的光刻胶区域。在显影之后,光刻胶结构经过热熔获得圆形形状。
反应离子蚀刻
下一步,将微光学结构转移到大块晶圆材料中。蚀刻工艺以不同的蚀刻速率从光刻胶和晶圆表面去除原子。被光刻胶结构覆盖的表面区域得到了保护,直到去除覆盖层为止。
图1. 微透镜阵列的工艺简述
用于共封装光学(cpo)的定制化透镜阵列
可用于高密度集成光学的垂直耦合/边耦合一体的微透镜阵列/微棱镜模组如图3所示。针对垂直耦合的需求,在模组的一面刻蚀出微透镜阵列,针对边耦合的需求,在模组的另一面做出镀膜的反射棱镜,这样的模组就可以完成水平光路和垂直光路的转换。
模组的具体参数可来电咨询。
图2. 微透镜阵列/微棱镜模组
微透镜阵列的产品介绍
折射式微透镜
用于光纤波导/光电芯片波导耦合的微透镜阵列
smo公司提供各种定制化微透镜,实现光纤与硅基光电子芯片、wss、半导体激光器芯片、vcsel、cwdm器件和dwdm器件等元件的高效准直和光耦合。这些微透镜阵列(mla)适用于可见光和红外波段的应用。
标准货架微透镜阵列产品为:间距为127、250、500、750、1000、1250um(现货),阵列尺寸可达120×120mm²
可定制微透镜阵列产品为:通过定义roc、圆锥、均匀度和涂层等参数,可以定制微透镜阵列产品。
主要特点
一维和二维微透镜阵列
最高质量和精度
基体材料:熔融石英,硅,硼硅玻璃
波长范围:duv 至 mid-ir
透镜外形:球面、非球面
次微米级定位精度
用于胶塞和胶袋,瞳孔,针孔,对准标记和安装接杆的沟槽
前后对准精确的双面透镜阵列
增透膜,金属化,晶圆级包装
晶圆减薄
光束均匀器
smo公司的均质化元件可以满足用户在激光应用(例如紫外线固化、激光机械加工/加工、涂胶和照明)中对光强分布均匀的要求,以取得最佳效果。根据入射光束特性的不同,我们的微光学元件提供了对输出照明的近乎完美的解耦。您可以使用我们的折射微透镜来生成均匀照明的二维矩形或方形区域,以及线条和点阵图形,或者使用衍射光学元件通过均匀照明创建选定形状。我们可以创建您需要的任何形状,并进行模拟测试来达到所需要的效果。
主要特点
完美地均匀分布在工作
平面上(平顶分布)
平顶形状:方形、矩形、圆形、
直线
紧凑设计
易用性
极高功率的紫外级熔融石英
适合高功率应用的熔融石英级
适合所有光源(汞弧灯、准分子激光、紫外led)
适合宽带或特定波长的紫外线的增透膜
高激光损伤阈值(lidt)的增透膜
高功率可适用于从 duv 到 nir 的所有波长,例如duv、uv、vis、nir
图3. 光束均匀器现成产品和仿真示意图
衍射光学元件(doe)
smo公司是高端衍射光学元件的顶级供应商。我们的doe产品适合要求极为严苛的应用,例如基于doe的点阵发生器,duv步进式晶圆***照明系统,高功率激光器光束整形系统,光纤互联涡旋透镜,随机doe和匀光扩散板,计量仪表,医疗器械,压印或复印母版等。典型应用在光束整形、激光、均匀器/扩散器、相位板、三维传感、点阵发生器等场景。
在空间受限的应用中,我们可以使用衍射光学元件(doe) 代替微透镜。doe还可用作出色的光束均匀器和整形器,它们不会像微透镜那样对其产生的照明形状有限制。
专为菲涅尔透镜设计的8阶衍射光学元件,我们的晶圆级技术(8晶圆级)有助于大规模制造衍射光学元件,且价格极具竞争力。
主要特点
熔融石英、硅
8晶圆级
二元、8阶、16阶
0.5um的最小特征尺寸
<70nm套刻精度
衍射效率高达98%
190nm至5um波长范围
mla和doe集成在同一个元件上
自定义设计
基准点、识别标记
基座和凹槽
增透膜和金属化
交付选项
设计能力-定制解决方案
我们的光学工程师了解您的关键需求以及高效、经济生产的要求。在从原型设计到量产的过程中, 通过定制化透镜设计解决方案将愿景转化为现实。doe的主要优势–生产集成不同“roc”的元件,离轴透镜,无间隙透镜等。
图4. 衍射光学元件定制解决方案
微透镜阵列产品的服务简述
设计支持:为用户提供设计支持,协助用户进行可行性和原型设计,直至批量生产。
仿真和光学建模:smo公司经验丰富的团队具备广泛的先进光学建模能力,在许多应用领域为客户提供仿真支持,例如光束均匀化、光纤和pic耦合、基于mla的汽车照明投影仪、衍射和混合三维传感用光线追踪和物理光学的仿真和光学建模。
图5. 各种微透镜阵列设计服务简述
压印解决方案:smo公司的压印能力为客户提供了应用设计苛刻结构所需的灵活性,包括自由曲面微光学器件、高填充因数(高达100%) 以及凹凸形状的组合。这项技术已被应用于汽车行业的大批量制造,使其成为适合成本敏感型市场的良好解决方案,同时受益于稳定的工艺过程。通过利用母公司suss microtec开发的最新设备,我们以具有成本竞争力的价格复制最苛刻的透镜形状。典型应用在汽车、医疗、三维传感等场景。
图6. 压印解决方案
压印光刻构成许多新兴应用的关键技术,例如led、mems / nems、微光学器件、增强现实和光电传感器。suss microtec和suss microoptics分享了数十年的压印技术专业知识和制造经验。在suss压印卓越中心,客户可以利用这些专业知识,并获得广泛系列suss压印技术以及我们对工艺应用的深入了解。我们按照公认汽车标准的严格要求展开工作,并为客户提供从设计阶段到大批量生产的全面支持。
镀膜和金属化:可提供铬、黑铬或铝镀膜,以达到单波长或者宽带的抗反射效果;并可根据用户要求提供其他材料镀膜。
对准点和识别标记:可根据客户要求定制。
发货前测试:每次交付提供标准测试报告,并可根据用户要求进行额外测量。
smo公司拥有各种最先进的计量工具,用于晶圆级光学器件的检测和质量控制。我们使用干涉测量工具(例如共焦扫描显微镜、白光干涉仪和机械测针技术)展开组件级别的测试。
图7. 微透镜阵列的发货前测试
可量产性:支持晶圆级量产。
包装方式:根据体积和客户要求提供多种包装方式,包括管、膜盒和胶带。
图8. 微透镜阵列的形状因子和包装特点
微透镜阵列的产品信息
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