euv光刻机三大核心技术 哪些公司有euv光刻机
中国芯的进步那是有目共睹，我国在光刻机，特别是在euv光刻机方面，更是不断寻求填补空白的途径。
euv光刻机有三大核心技术，分别是光源系统、光学镜头、双工作台系统。
国产euv光刻机不断“突围”
2021年6月28日，我国重大科技基础设施项目，首台高能同步辐射光源科研设备成功在北京怀柔科学城完成安装。这就解决了euv光源的问题。
2021年5月下旬，南京大学陆海和张荣教授团队在前期研究的基础上，通过开发选区刻蚀、高温氧化修复与低温金属化工艺，成功实现了国际首支宽禁带半导体pn结构euv探测器。
光刻机是技术壁垒极高的产品，而euv光刻机制造更是“难上加难”，在euv光刻机方面，荷兰asml（阿斯麦）公司垄断了目前的euv光刻机。
该公司于1997年加入了有英特尔和美国能源部牵头组建的euvllc前沿技术组织，享受euvllc的研究成果大大加快了asml的euv研发速度;2010年，公司向一家亚洲芯片制造商的研究机构运送了第一台极紫外（euv）光刻工具原型（nxe：3100），标志着光刻新时代的开始;2020年，公司的euv光刻机进入大批量生产，也为全球唯一一家能量产euv光刻机的公司。
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