光学薄膜激光损伤阈值的后处理方法有主要有哪几种
现阶段提高光学薄膜激光损伤阈值的后处理方法有主要有哪几种，今天我们一起来学学！
1，激光预处理
以低于薄膜损伤阈值的激光辐射样品，可以去除或消融由电子束蒸发技术制备的多孔薄膜表面的杂质、缺陷或吸附水分。此外，通过低于薄膜损伤阈值能量的纳秒脉宽激光辐照，可以破坏薄膜材料的节瘤缺陷，所以在更高能量密度的纳秒激光辐照下薄膜就不会因节瘤缺陷向灾难性破坏的方向发展。经过纳秒激光预处理，薄膜的纳秒激光损伤阈值通常会有所提升，但由于损伤原理的不同，其飞秒激光损伤阈值反而会有所下降。
2，离子后处理
离子后处理已经广泛应用于多种薄膜材料的表面改性，是一种采用特定能量离子轰击材料表面，从而使表面材料性质得到改善的技术。 离子后处理能够提高薄膜材料的堆积密度，减少薄膜表面缺陷， 降低激光吸收并在材料表面形成一层薄保护层，因此可用于易受表面损坏的薄膜 ，提高薄膜的激光损伤阈值。
3，热退火后处理
热退火后处理可以蒸发掉薄膜中的水分进而提高薄膜的致密度，补充薄膜的氧空穴减少薄膜的激光吸收，可以一定程度上提高薄膜的激光损伤阈值。在热退火后处理中，退火温度需根据薄膜材料而定， 当退火温度超过了材料可承受温度范围后由此带来的晶粒尺寸变化将引起薄膜内应力的增加，导致薄膜产生裂纹，反而破坏薄膜。
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