满足分析型用户需求！超大束流，超快分析的场发射扫描电镜SEM4000 来了
在此前的两期推文中
我们为大家介绍了两款钨灯丝扫描电镜
“重新定义钨灯丝扫描电镜”的sem3300
和“操作不挑人，简约不简单”的sem2000
今天，针对有分析型需求的用户
超大束流，超快分析的
场发射扫描电镜sem4000
场发射扫描电镜sem4000
sem4000超大束流，超快分析
熟悉国仪的朋友们都知道
我们已经有了一款主打低电压高分辨的场发射电镜sem5000
那么sem4000有什么不同？有什么新的特点？
场发射扫描电镜sem4000
那就是电子束流大，分析速度快！
非常适合有分析型需求的用户
sem4000有着最大超过200 na的电子束流
而且束流大小连续可调！
大束流可以带来很多好处
例如：相同信噪比情况下更快的成像速度、更大的能谱计数、更强的波谱仪信号
束流连续可调，有利于选择最合适的成像和能谱条件
sem4000实拍见真章
下方展示的是使用sem4000拍摄的高、低真空样品图片
枫香花粉在低真空模式下形貌保持良好，表面细节丰富、整体层次分明;
sem4000电子束流大，背散射像下原子序数相近材料的成分衬度差异明显（pa-玻纤复合材料）;
应用高亮度的热场发射电子源，sem4000可以获得高分辨图片（金刚石涂层）
枫香花粉
pa-玻纤复合材料金刚石涂层
sem4000技术解读
sem4000是如何同时做到大束流和束流连续可调？
国仪量子电镜研发团队
采用了束流控制透镜+像方束张角控制透镜的方案
也就是先用一个透镜，控制电子源方向的束张角，从而获得连续可调的电子束流（图a）
图a
然后再用第二个透镜，控制像方束张角（图b）
图b
从而实现不同束流下的最佳分辨率和景深
使得绝大多数工况下成像质量最优！
如果您需要用到分析功能
并且追求更高、更快的分析效率
那么场发射扫描电镜sem4000
一定是您的最佳拍档！
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图a
然后再用第二个透镜，控制像方束张角（图b）
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