一、uv循环
一级的光化学反应对温度变化并不敏感。然而,随之而来的二级反应的速度则和温度变化紧密相关。一般来说,随着温度升高,反应速度会加快。因此,在uv曝晒试验过程中,温度控制就显得很重要,更重要的是要将加速试验所采用的试验温度与材料在实际应用中遭遇的zui高温度相匹配。在设备中uv的温度设置可以是从50℃到80℃中的任何一点,具体取决于光照度水平和室内环境气温。设备的温度调节是通过具有微电脑演算功能的控制器来指挥设备内诸如空气加热器、水加热器、等一系列系统来完成。
二、湿气循环
随着温度的提高,潮湿对材料的破坏力会急剧增加。因此在潮湿曝晒过程中,温度控制是zui基本的要求。更进一步说,要产生加速效果,就要求在潮湿曝晒过程中保持高温环境。在设备中冷凝过程温度设置可以是从40℃到60℃中的任何一点。
三、加 热 系 统
采用u型钛合金高速加温电热管;
温度控制与光照完全独立系统;
温度控制输出功率均由微电脑演算,以达高精度及率之用电效益;
具有加热系统的防超温功能;
黑色铝板温度采用智能型韩国温控仪控制加热,输出功率均由微电脑演算,pid自整定。监控采用标准的pt—100黑板温度传感器;
水槽温度同样为韩国温控仪控制加热,水槽位于箱体下部,内置电加热水器。在循环测试过程中,有一个测试段是黑暗凝露过程,它需要箱体内能产生较高温度的饱和水蒸气,当水蒸气遇到相对较冷的样板表面时,会在样板表面凝结露水。
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