安森美推出针对High-Q IPD工艺的设计套件

应用于高能效电子产品的首要高性能硅方案供应商安森美半导体(on semiconductor)宣布提供针对公司high-q集成无源器件(ipd)工艺的完整从前到后工序工艺设计套件(pdk)。这pdk开发是为了配合安捷伦科技的先进设计系统(ads) 2011电子设计辅助(eda)软件一起使用,使安森美半导体及安捷伦科技的客户能够充分利用业界最全面射频(rf)及微波设计平台的优势。
安森美半导体的high-q ipd工艺技术提供高电阻率硅铜(copper on high resistivity silicon)平台,非常适合用于生产无源器件,如用于便携、无线及射频应用的平衡-不平衡转换器、滤波器、耦合器、双工器及匹配网络。ipd技术用于安森美半导体在美国俄勒冈州gresham的世界一流200 mm晶圆制造厂制造铜电感、精密电容及精密电阻。ipd为射频系统级封装提供高性价比方案。安森美半导体还为工程原型开发提供经济合算的晶圆厂往返服务。此外,安森美半导体还提供多种应用定制规格的设计服务。
安森美半导体定制晶圆代工及ipd分部高级总监rick whitcomb说:“ipd工艺在射频应用极受垂青,我们看到客户极想要这工艺扩展至配合安捷伦的ads平台。我们为客户提供包括布线和集成em支援在内的完整ads设计套件,他们便能利用安捷伦在射频及微波设计领域经证明的专知之优势。”
为客户提供的全功能ads设计套件可用于布线、仿真及验证,支持电路图驱使型布线生成、布线与电路图对比检验、集成3d平面电磁及3d-fem仿真器。
安捷伦科技eesof eda晶圆制造项目经理juergen hartung说:“ads与ipd工艺完美匹配,ads与安森美半导体ipd设计套件的组合使相互的客户能够获得高效的集成设计平台。ads不仅为ipd裸片本身提供完整的从前到后工序应用平台,还直接能设计出包含ipd的完整射频模块。”

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