三星宣布,位于韩国京畿道华城市的v1工厂已经开始量产7nm 7lpp、6nm 6lpp工艺,这也是全球第一座专门为euv极紫外光刻工艺打造的代工厂。
据介绍,三星7lpp、6lpp工艺主要生产先进的移动soc芯片,本季度内陆续出货,具体客户均未披露,不过看起来7lpp会是对外代工主力,6lpp则可能是三星自用,或者仅限特定客户。
按照三星的说法,6lpp相比于7lpp可将晶体管密度增加约10%,并降低功耗,但彼此互相兼容,针对7lpp工艺设计的ip可以直接复用,从而大大降低成本。
在路线图上,三星还规划了5lpe、4lpe、3gae、3gap等更先进的工艺,都会使用euv极紫外光刻,其中5nm、4nm都可以算作7nm工艺的深度升级,3nm则是全新设计。
高通刚刚发布的第三代5g基带骁龙x60就采用三星5nm工艺制造,3nm则会在今年完成开发,放弃使用多年的finfet晶体管架构。
三星v1工厂2018年2月开工建设,2019年下半年开始试产,未来将迅速扩大产能,到今年底7lpp euv和更新工艺的总产能将是去年底的三倍,累计投资也将达60亿美元。
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