薄膜场效应晶体管液晶显示器(TFT-LCD)

薄膜场效应晶体管液晶显示器(tft-lcd)
tft(thin film transistor)lcd即薄膜场效应晶体管lcd,是有源矩阵类型液晶显示器(am-lcd)中的一种。
和tn技术不同的是,tft的显示采用“背透式”照射方式——假想的光源路径不是像tn液晶那样从上至下,而是从下向上。这样的作法是在液晶的背部设置特殊光管,光源照射时通过下偏光板向上透出。由于上下夹层的电极改成fet电极和共通电极,在fet电极导通时,液晶分子的表现也会发生改变,可以通过遮光和透光来达到显示的目的,响应时间大大提高到80ms左右。因其具有比tn-lcd更高的对比度和更丰富的色彩,荧屏更新频率也更快,故tft俗称“真彩”。
相对于dstn而言,tft-lcd的主要特点是为每个像素配置一个半导体开关器件。由于每个像素都可以通过点脉冲直接控制。因而每个节点都相对独立,并可以进行连续控制。这样的设计方法不仅提高了显示屏的反应速度,同时也可以精确控制显示灰度,这就是tft色彩较dstn更为逼真的原因。
目前,绝大部分笔记本电脑厂商的产品都采用tft-lcd。早期的tft-lcd主要用于笔记本电脑的制造。尽管在当时tft相对于dstn具有极大的优势,但是由于技术上的原因,tft-lcd在响应时间、亮度及可视角度上与传统的crt显示器还有很大的差距。加上极低的成品率导致其高昂的价格,使得桌面型的tft-lcd成为遥不可及的尤物。
不过,随着技术的不断发展,良品率不断提高,加上一些新技术的出现,使得tft-lcd在响应时间、对比度、亮度、可视角度方面有了很大的进步,拉近了与传统crt显示器的差距。如今,大多数主流lcd显示器的响应时间都提高到50ms以下,这些都为lcd走向主流铺平了道路。
lcd的应用市场应该说是潜力巨大。但就液晶面板生产能力而言,全世界的lcd主要集中在中国***、韩国和日本三个主要生产基地。亚洲是lcd面板研发及生产制造的中心,而台、日、韩三大产地的发展情况各有不同。
目前主流的tft面板有a-si(非晶硅薄膜晶体管)、tft技术和ltps tft(低温复晶硅)tft技术。
在a-si方面,三个生产基地的技术各有千秋。日本厂商曾经研制出分辨率高达2560×2048的lcd产品。因此,有些人认为,a-si tft技术完全可满足高分辨率的产品需要,但是,由于技术的不成熟,它还不能满足高速视频影像或动画等的需要。ltps tft相对可以节约成本,这对于tft lcd的推广有着重要意义。目前,日本厂商已经有量产12.1英寸ltps tft lcd的能力。而中国***已开发完成ltps组件制造技术与ltps sxga面板技术。韩国在这方面缺少专门的设计人员和研发专家,但像三星等主要企业已经推出了ltps产品,显示出韩国厂商的实力。不过,目前ltps技术尚不成熟,产品集中在小屏幕,而且良品率低,成本优势尚无从谈起。
与ltps相比,a-si无疑是目前tft lcd的主流。日本公司的a-sitft投资策略上几乎都以第三代lcd产品为主,通过制造技术及良品率的改善来提高产量,降低成本。日本一直走高端路线,其技术无疑是最先进的。由于研发力量有限,***的a-si tft技术主要来自日本厂商的转让,但由于***企业一般属于劳动密集型,技术含量价低,以生产低端产品为主。韩国在a-si方面有着强大的研发实力,比如三星公司就量产了全球第一台24寸a-si tft lcd—240t,它的响应时间小于25ms,可以满足一般应用需要;而可视角度达到了160度,使得lcd在传统弱项上不输给crt。三星240t标志着大屏幕tft lcd技术走向成熟,也向世人展示了韩国厂商的实力不容置疑。
目录 1 tft-lcd的市场分析 2 tft-lcd技术的产业特点 3 a-si tft-lcd技术的研究现状 4 tft型液晶显示器结构 5 tft型液晶显示器的运作原理
tft-lcd的市场分析
tft-lcd 是有源矩阵液晶显示器(am lcd)的典型代表,其研究最活跃、发展最快、应用增长也最迅速,在笔记本电脑、摄像机与数字照相机监视器等方面的应用独领风骚,另外,它在地理信息系统以及飞机座舱、便携式dvd、台式电脑和多媒体显示器等方面都得到很好的应用。彩色tft-lcd的构思最初由美国人(西屋公司)于1972年提出、日本东芝公司在1982年率先实现这一技术的规模生产,但那时的生产技术还不成熟。自1993年日本掌握了tft-lcd生产技术以来,分辨率已由cga (320 * 200)发展到今天的uxga (1600 * 1200),基片尺寸也已有第一代的240 * 270-32o * 400mm2发展到2001年日本夏普、韩国三星电子和lg-philips公司分别上马的第七代的1350 * 1700 mm2。目前,tft-lcd的应用主要在小尺寸的移动电话市场、中型尺寸的掌上电脑与笔记本电脑市场、大型尺寸的液晶显示监视器和液晶电视市场等五个方面。2005年tft-lcd将被主要应用于显示器(39%)、笔记本电脑(25%)、手机(16%),液晶电视(10%), pda(6%)五大领域,市场销售金额将超过250亿美元,占lcd市场比例超过90%,成为液晶乃至整个平板显示技术领域的主导技术。
tft-lcd技术的产业特点
资金密集,规模经营:建立一条生产线投资在10亿美元左右.技术密集:涉及到半导体技术、精密机械、精密光学、自动控制、大规模集成电路设计和制造技术、光电子、微电子、精细化工、光源、材料、通讯、计算机软件等。
发展速度快,核心技术稳定:tft-lcd产业化十年来生产线经历了7次大的发展,平均1年半生产线就要更新一次。但是tft-lcd的核心技术是相对稳定的.
带动的产业面广,对国民经济具有全局意义:上游原料、生产设备、生产技术涉及到现代工业生产的几十个领域。新材料的开发、大规模生产设备的制造、先进生产技术的应用,将带动上游产业群。tft-lcd模块是信息产业的核心器件,涉及到通讯、交通、家电、计算机、教育、工业、医疗、国防等几乎所有的领域。
a-si tft-lcd技术的研究现状
分辨率: tft-lcd的分辨率在近几年中经由cga( 320 * 2 00),vga( 640 * 4 80),svga (1280 * 1024)。xga (1024 * 768). sxga (1280 * 1024)发展到目前的uxga (1600 * 1200)、qxga (2560 * 2048)的水平。
对比度:美国p.p.muhoray等人推出了波导基lcd技术,并利用这种技术实现了174:1的高对比度,而现在的tft-lcd对比度最高可达到500:1。
视角: 由于液晶材料是各向异性的,其分子排列的取向及在电场作用下的重新排列取得均匀影响lcd器件视角的拓宽,这就造成了lcd器件视角上的缺点,现已提出多种宽视角技术,如同平面切换模式、相对称微单元模式、畴垂直模式等,视角可达到170度。
响应速度:当帧频为60% 时,帧周期约为16ms,采用tn型lcd的普通tft-lcd器件的响应时间可低于20ms。最近推出了一种利用弹性连续聚合物稳定化的平面开关方法,可使响应时间缩短到10ms,采用光学补偿带可将响应时间缩短到2~3ms,目前已用本技术研制出响应时间为8ms的彩色lcd电视机。
寿命: 由于制造技术的发展,tft-lcd的寿命可达到3万小时以上。
大屏幕和反射式己出现:已研制成功38in的tft-lctv,结束了大屏幕lc的拼接时代,反射式tft-lcd彩色显示器也开始商品化。
由于tft制作技术的发展、液晶材料性能的改善、宽视角技术的采用、响应速度的提高和成品率的提高,tft-lcd显示性能已并不亚于crt。
tft型液晶显示器结构
通常的a-si tft主要由玻璃基板、栅电极、栅绝缘层、半导体活性层a-si,欧姆接触层n+a-si、源漏电极及保护膜等组成,其中栅绝缘层和保护膜一般采用sin。
a-si tft 的结构可分为四种典型结构:源、漏、栅三电极位于半导体活性层a-si同一侧的平面结构,其中源、漏、栅三电极位于a-si层上侧的称正栅平面结构,源、漏、栅三电极位于a-si层下侧的称倒栅平面结构;源、漏、电极与栅电极位于a-si层两侧的交错结构,其中栅电极在a-si层上侧,源、漏电极在a-si层下侧的称正栅交错结构或顶栅结构,栅极在a-si下侧,源、漏电极在a-si层上侧的称倒栅交错结构或底栅结构。
从制造工艺上看,交错结构的sin,a-si和n+a-si三层(或其中二层)可以连续淀积,适合流水作业,又可减少交叉污染。现在,交错结构已成为主流,它不仅对a-si, sin., n+a-si可连续作业,而且倒栅还可以作遮光层(不需另设遮光层),这对a-si tft是重要的,因为a-si对光敏感,一旦有光流入引起漏电流增加,将会导致像质恶化。
tft型液晶显示器的运作原理
从tft-lcd的切面结构图(下图)可以看到lcd是由二层玻璃基板夹住液晶组成的,形成一个平行板电容器,通过嵌入在下玻璃基板上的tft对这个电容器和内置的存储电容充电,维持每幅图像所需要的电压直到下一幅画面更新。液晶的彩色都是透明的必须给lcd衬以白色的背光板上才能将五颜六色表达出来,而要使白色的背光板有反射就需要在四周加上白色灯光。因此在tft-lcd的底部都组合了灯具,如ccfl或led。
tft-lcd需要背光,由于lcd面板本身并不发光,因此需要背光,液晶显示器就必须加上一个背光板, 来提供一个高亮度,而且亮度分布均匀的光源。lcd实际上是打开来自其后面光源的光来表现其色彩的。目前的常用背光源是ccfl或led。

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