10 月 16 日消息,上周一,三星电子和 sk 海力士等韩国公司获得美国政府无限期豁免,其中国工厂无需特别许可即可进口美国芯片设备。
对于三星来说这无疑是一个好消息,而且他们在取得豁免后也确实在采取相应措施。据 business korea 报道,三星电子高层已决定将其西安 nand 闪存工厂升级到 236 层 nand 工艺,并已开始大规模扩张。
消息人士称,三星已开始采购最新的半导体设备,新设备预计将在 2023 年底交付,并于 2024 年在西安工厂陆续引进可生产第 8 代 nand 的设备,这也被业界视为克服全球 nand 需求疲软导致产能下降的战略步骤。
公开资料显示,三星(中国)半导体有限公司 2012 年落户西安高新区,而三星半导体西安工厂是该公司唯一的海外存储器半导体生产基地。
该工厂于 2020 年增设了第二期工厂项目,目前已发展成为全球最大的 nand 制造基地,每月可生产 20 万片 12 英寸晶圆,这占据了三星 nand 总产量的 40% 以上。
三星西安工厂第一工厂投资 108.7 亿美元,2017 年开始建造的第二工厂,先后投资了 150 亿美元(当前约 1096.5 亿元人民币)。
外媒认为,三星决定升级其西安工厂的原因有两个。其一主要在全球 nand 市场环境没有表现出明显的复苏迹象,而在这种情况下三星需要保持其在 nand 市场的全球领导地位;另一个原因就是美国刚刚发布的无限期豁免。
由于产能严重过剩,再加上去年年底以来全球 it 市场需求严重低迷,半导体市场疲软严重影响了三星的 nand 业务,导致库存水位一直增加,进而导致亏损不断扩大。即使在通过减产政策略降低产量后略有改善,但目前三星依然需要尽快实现工艺升级。
通过升级最新的第 8 代 nand 产品,三星不仅可以确保价格竞争力,而且考虑到第 8 代 nand 相比第 6 代晶圆投入减少约 30%,更能平衡市场供应和需求。
据称,作为第 6 代(128 层)v-nand 主要生产基地,西安工厂自三星 4 月份宣布减产以来,其开工率也出现了大幅下降,目前整体开工率已降至 20% 左右。
外媒认为,美国虽然暂时放宽了对中国半导体设备的限制,但这对于三星和 sk 海力士来说仅仅只是一个暂时的喘息机会。
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