基于L298N芯片对离子渗氮中压强的控制

摘要:离子渗氮工艺对炉体内压强的控制要求比较高,本文设计了一种基于l298n芯片驱动直流电动机控制的气体流量控制器,可用于控制反应炉的抽气气体流量,提高了炉体压强控制精度,降低了生产成本。
1、离子渗氮理论 离子渗氮是在低温等离子中进行的,低气压气体在电场作用下使之电离,产生高能离子和高能中性原子,这些高能粒子可以改善渗层组织结构和促进化学反应过程,加速渗氮层的形成。离子渗氮是在辉光放电中进行,在离子渗氮过程中对炉体的压强控制精度要求比较高,控制偏差几十帕。根据帕邢定律:
其中:p为气体压强;
d为平行板电极间距离;
v为阴极二次电子发射系数;
b为斯托列夫常数;
a是常数。
对式(1)求导,可得出击穿电压表达式(2):
由式(2)可知,击穿电压v与气体压强和d有关,而一般实验中d是固定不变,因此离子渗氮对压强控制极为重要。
2、系统流量与压强测控框图 流量计控制进气口的气体流量,当进气和抽气流量平衡时,炉体压强保持稳定。由于炉体气体泄露及其他干扰因素的影响,炉体压强上下波动,系统偏离平衡态,严重时影响等离子工艺处理。我们采用普通直流电动机,通过l298n驱动直流电动机,由电动机通过减速杆带动锥体转动。当锥体旋进时,抽气机单位时间内抽出气体减少;旋出时,抽出气体增多,从而使炉体内的压强稳定在所需的值。炉体压强的变化通过压强传感器测出并通过变送器,将气体流量控制器送至反馈电压。抽气口采用电动真空蝶阀价格昂贵,如图1所示。
图1系统流量与压强测控框图
3、l298n芯片介绍
图2l298n内部功能模块
l298n可接受标准ttl逻辑电平信号vss,vss可接4.5~7v电压。4脚vs接电源电压,vs电压范围vih为+2.5~46v。输出电流可达2.5a,可驱动电感性负载。1脚和15脚下管的发射极分别单独引出以便接入电流采样电阻,形成电流传感信号。l298可驱动2个电动机,out1,out2和out3,out4之间可分别接电动机,本实验装置我们选用驱动一台电动机。5,7,10,12脚接输入控制电平,控制电机的正反转。ena,enb接控制使能端,控制电机的停转。表1是l298n功能逻辑图。
表1l298n功能模块
in3,in4的逻辑图与表1相同。由表1可知ena为低电平时,输入电平对电机控制起作用,当ena为高电平,输入电平为一高一低,电机正或反转。同为低电平电机停止,同为高电平电机刹停。
4、控制器原理 图3是控制器原理图,由3个虚线框图组成
图3控制器原理图
下面是3个虚线框图功能:
(1)虚线框图1控制电机正反转,u1a,u2a是比较器,vi来自炉体压强传感器的电压。当vi》vrbf1时,u1a输出高电平,u2a输出高电平经反相器变为低电平,电机正转。同理vi《vrbf1时,电机反转。电机正反转可控制抽气机抽出气体的流量,从而改变炉体压强。
(2)虚线框图2中,u3a,u4a两个比较器组成双限比较器,当vb《vi《va时输出低电平,当vi》va,vi《vb时输出高电平。va,vb是由炉体压强转感器转换电压的上下限,即反应炉体压强控制范围。根据工艺要求,我们可自行规定va,vb的值,只要炉体压强在va,vb所确定范围之间电机停转(注意vb《vrbf1《va,如果不在这个范围内,系统不稳定)。
(3)虚线框图3是一个长延时电路。u5a是一个比较器,rs1是采样电阻,vrbf2是电机过流电压。rs1上电压大于vref2,电机过流,u5a输出低电平。由上面可知,框图1控制电机正反转,框图2控制炉体压强的纹波大小。当炉体压强太小或太大时,电动机转到两端固定位置停止,根据直流电机稳态运行方程:
u=ceфn+raia
其中:ф为电机每极磁通量;
ce为电动势常数;
n为电机转数;
ia为电枢电流;
ra电枢回路电阻。
电机转数n为0,电机的电流急剧增加,时间过长将会使电机烧坏。但电机起动时,电机中线圈中的电流也急剧变大,因此我们必须把这两种状态分开。长延时电路可把这两种状态区分出来。长延时电路工作原理:当rs1过流u5a产生一个负脉冲经过微分后,脉冲触发555的2脚,电路置位,3脚输出高电平,由于放电端7脚开路,c1,r5及u6a组成积分器开始积分,电容c1上的充电电压线性上升,延时运放积分常数为100r5c1。当c1上充电电压,即6脚电压超过2/3vcc,555电路复位,输出低电平。电机启动时间一般小于0.8s,c1充电时间一般为0.8~1s。u5a输出电平与555的3脚输出电平经u7相或,如果u5a输出低电平大于c1充电时间,u7在c1充电后输出低电平由与门u8输入到l298n的6脚ena端使电机停止。如果u5a的输出电平小于c1充电时间,6脚不动作电机的正常启动。长延时电路吸收电机启动过流电压波形,从而使电机正常启动。
5、结语 采用此控制器控制气体流量,可降低生产成本,提高系统性价比,改善整个系统控制的控制动态性能和稳定性能。

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