芯片巨头格罗方德放弃7纳米技术研究中芯会进入7纳米的研究中吗
著名的美国半导体企业格罗方德半导体股份有限公司global foundries宣布，将放弃未来7纳米技术的研发，这意味着未来参与 7 纳米战局的芯片大厂只剩英特尔、三星和台积电三家，但是国人不必灰心，中芯国际曾表示明年要进入第二代制造技术的开发，也许会直攻 7 纳米技术，抢下全球第四张入场券！
在外人看来，半导体似乎是个稳赚不赔的行业，但风光的背后，是疯狂的烧钱、技术研发。三星、台积电为了保持自己一线地位必须烧下去，但像联电、格罗方德这样的二线企业，停在14纳米工艺世代已经可以保证他们赚钱了，如果贸然投入7纳米，可能连本都没拿到时，就被大企业拖死了。英特尔也淡出晶圆代工业务，未来即使开发出 7 纳米的技术，也会以自己产品为主，能开放代工服务的，仅剩下台积电和三星。
为什么企业要玩命研发？为何国内半导体企业不能像互联网那样跨越式发展？
过去半导体赢家的致胜之道，是要一路不回头、咬紧牙关不断投资，只要比竞争对手撑得更久，最后一定是赢家通吃，因为芯片产业是第一名赚大钱，第二名打平，第三名活得很辛苦，第四名之后通通赔钱，也因为如此，所有厂商咬牙持续投资就是为了要挤入前三名。
如今不一样了。
在7纳米方面，研发需要巨资，但能用7纳米技术的用户却寥寥无几，中小公司用不到7纳米纳米高端的技术，16甚至28纳米就够了。所以你从来都没听说过德州仪器在7纳米上有所动作。
人家的微控制器、汽车电子一样可以做的很好，而且根本不需要最先进的制程。甚至55纳米也ok的！举个最简单的例子：手机上除了处理器是最先进的产品之外，其他芯片都是n年前的制程，一样可以用的很好，汽车、家电用得着16纳米吗？所以其他企业为了利润，就不去抢占那个技术高地，通过自己的研发和渠道，一样可以过的很好。
为啥制程越小越难？
制作集成电路的光刻机原理大致如下：
1. 在晶圆上涂抹光刻胶，盖上掩膜。
2. 使用可见光照射，被照射的部分就会发生反应，经过显影，被光照的光刻胶部分就会溶解
3. 放进氢氟酸里腐蚀，没有光刻胶的部分就会被蚀刻，一层接一层。
图片来源：超能网
道理似乎很简单。但光并不简单。
工艺的极限就在于，光需要透过掩膜，越小的制程，掩膜就越小，小到一定程度，就要考虑光的衍射问题了。可见光中，波长最短的紫光（波长430纳米左右），比紫光更短的是紫外线，上一代光刻机用的是深紫外光（190纳米），新一代用的极紫光（7纳米波长！）所以我们要是想突破7纳米限制，到底用什么光？谁也不知道。这也是为什么经常有人会讲摩尔定律会失效的原因了。
极紫外光刻机（又名euv光刻机）
这下知道清华紫光的名字怎么来的吧？
回到正题。
只有苹果、高通、博通、英伟达、amd、联发科、海思这些仍需要大量性能填补的怪兽才是7纳米技术的客户，但这些需求，能填补7纳米的投资成本吗？（提示一下目前最新的技术，英伟达刚刚发布的怪兽级rtx2080显卡，使用的是12纳米技术，上一代1080是16纳米技术）
今年真正可以进入 7 纳米工艺量产的仅有台积电，明年三星才会加入，而英特尔10 纳米技术就一直难产，一延再延，连技术巨擘如英特尔都显露出吃力的样子，何况别人？
中芯国际smic
不过中芯国际的崛起，未来不会让台积电三星太好受，不久前刚刚宣布14纳米制程开发成功的中芯，即将向着下一代技术开发。
行业内人士认为，中芯国际在 14 纳米技术开发成功后，往下究竟是规划 10 纳米？7 纳米？或是介于中间的工艺技术？尽管目前公司尚未透露，但相信中芯国际未来在 7 纳米工艺上不会缺席。
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