ASML表示2018年将出货20套光刻机，上半年业绩表现亮眼
荷兰半导体设备大厂asml日前表示，该公司2018年将出货20套极紫外光(euv)光刻机，该数量预期在2019年将增加到30套以上。
asml是在最近发布的第二季财报中做出以上预估数字，该公司也透露其整体euv工具销售业绩优于预期，达到约32亿美元；asml执行长peter wennink表示，「毛利率比我们的预期略高，反映了我们的深紫外光(duv)与应用业务的强劲表现，以及euv获利进展。
asml在第二季出货4套euv系统，比先前预测的多了1套；wennink表示这是因为逻辑元件客户准备要在今年稍晚量产下一代产品。被视为5纳米以下先进半导体制程重要推手的euv技术终于在迟到数年后迈入量产阶段，包括三星(samsung)、英特尔(intel)与台积电 (tsmc)都打算在明年采用euv进行量产；不过euv技术仍存在与光源、良率等方面的挑战。
而asml表示，该公司现在已经证实能在nxe:3400b系列euv系统的出货上，达到超过85%的4周交货期，并正在执行数个专案以期在2019年达到超过90%的如期交货。
wennik还指出，asml的duv微影业务持续发展蓬勃，主要来自于记忆体市场需求；他表示该市场至少在今年与2019年仍然需要大量的微影系统。
而asml在2018上半年业绩表现亮眼，预期下半年也将维持成长力道，获利方面的成长可望延续至第三季、第四季。
展望第三季，asml预期销售额在27亿至28亿欧元之间(约为31.5亿美元~32.6亿美元)。
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而asml表示，该公司现在已经证实能在nxe:3400b系列euv系统的出货上，达到超过85%的4周交货期，并正在执行数个专案以期在2019年达到超过90%的如期交货。
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而asml在2018上半年业绩表现亮眼，预期下半年也将维持成长力道，获利方面的成长可望延续至第三季、第四季。
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