新技术 氮化镓(GaN)将接替硅

对于新技术而言,gan本质上比其将取代的技术(硅)成本低。gan器件与硅器件是在同一工厂用相同的制造程序生产出。因此,由于gan器件小于等效硅器件,因此每个晶片可以生产更多的器件,从而降低了每个晶片的成本。
gan有许多性能优势,包括远高于硅的电子迁移率(3.4ev对比1.1ev),这使其具有比硅高1000倍的电子传导效率的潜力。值得注意的是,gan的门极电荷(qg)较低,并且由于必须在每个开关周期内对其进行补充,因此gan能够以高达1 mhz的频率工作,效率不会降低,而硅则难以达到100 khz以上。此外,与硅不同,gan没有体二极管,其在algan / gan边界表面的2deg可以沿相反方向传导电流(称为“第三象限”操作)。因此,gan没有反向恢复电荷(qrr),使其非常适合硬开关应用。
gan确实具有有限的雪崩能力,并且比硅更容易受到过电压的影响,因此极其适用于漏-源电压(vds)钳位在轨电压的半桥拓扑。无体二极管使gan成为硬开关图腾柱功率因数校正(pfc)的很好的选择,并且gan也非常适用于零电压开关(zvs)应用,包括谐振llc和有源钳位反激。
45 w至65 w功率水平的快速充电适配器将得益于基于gan的有源钳位反激,而基于llc的gan用于150 w至300 w的高端笔记本电脑电源适配器中,例如用于游戏的笔记本电脑。在这些应用中,使用gan技术可使功率密度增加一倍,从而使适配器更小、更轻。特别地,相关的磁性元器件能够减小尺寸。例如,电源变压器内核的尺寸可从rm10减小为rm8的薄型或平面设计。因此,在许多应用中,功率密度增加了一倍甚至三倍,达30 w / in3。
图1:gan经优化实现快速开关
在更高功率的应用中,例如为服务器、云和电信系统供电的电源,尤其是基于图腾柱pfc的电源,采用gan可使能效超过99%。这使这些系统能够满足最重要的(和严格的)能效标准,如80+ titanium。
驱动gan器件的方法对于保护相对敏感的栅极氧化物至关重要。在器件导通期间提供精确调节的门极驱动幅值尤为重要。实现此目的的一种方法是添加低压降稳压器(ldo)到现有的硅mosfet门极驱动器中。但这会损害门极驱动性能,因此,最好使用驱动gan的专用半桥驱动器。
更具体地说,硅mosfet驱动器的典型传输延迟时间约为100 ns,这不适合驱动速度在500 khz到1 mhz之间的gan器件。对于此类速度,理想情况下,传输延迟应不超过50 ns。
由于电容较低,因此在gan器件的漏极和源极之间有高电压转换率。这可能导致器件过早失效甚至发生灾难性故障,尤其是在大功率应用中。为避免这种情况,必须有高的dv / dt抗扰度(在100 v / ns的范围内)。
pcb会对gan设计的性能产生实质性影响,因此经常使用rf型布局中常用的技术。我们还建议对门极驱动器使用低电感封装(如pqfn)。
安森美半导体的ncp51820是业界首款半桥门极驱动器,专门设计用于gan技术。它具有调节的5.2 v门极驱动,典型的传输延迟仅为25 ns。它具有高达200 v / ns的dv / dt抗扰度,采用低电感pqfn封装。
最初采用gan技术并增长的将是如低功率快速充电usb pd电源适配器和游戏类笔记本电脑高功率适配器等应用。这主要归因于有控制器和驱动器可支持需要高开关频率的这些应用,从而缩短了设计周期。随着合适的驱动器、控制器和模块方案可用于服务器、云和电信等更高功率的应用,那么gan也将被采用。
图2:ncp51820高性能、650 v半桥门极驱动器用于gan电源开关

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