浅析MEMS硅光芯片晶圆级的气密封装技术

这篇笔记介绍mems型硅光芯片封装的一则最新进展,瑞典皇家理工学院kth研究组联合洛桑联邦理工学院epfl、爱尔兰的tyndall、imec等多个机构,共同开发了mems硅光芯片晶圆级的气密封装技术(hermetic sealing)。
mems型悬臂光波导(suspended waveguide)的sio2包覆层会被刻蚀掉,因此它对空气的扰动、灰尘等非常敏感。如果想推动mems型硅光芯片的商用化,必须想办法解决该问题,克服环境扰动对光器件的影响,采用气密封装可以解决该问题。
该研究进展中采用imec isipp50g工艺平台的硅光芯片,在波导附近已经做了一部分local undercut工艺。在此基础上,采用hf进一步进行刻蚀,形成vacuum cavity,形成悬臂型波导和mems器件,如下图所示。
在另外一片直径100mm的soi晶圆上加工出25um厚的si作为密封盖(sealing cap),并沉积2um厚的金层。而在硅光芯片上利用顶层金属加工出相匹配的金属图案,然后作为密封盖的soi晶圆bonding到硅光芯片上(利用各自的金属层),最后去除handle wafer, 在需要保护的mems波导区域形成所需的硅密封盖。整个工艺流程如下图所示,
密封后的芯片截面图如下图所示,
硅密封盖可以根据需要,设计合适的尺寸,将要保护的mems波导区域覆盖住,如下图所示。对于grating coupler和金属pad, 为了方便测试,不需要进行保护,因此在sealing cap区域之外。
研究人员对密封前后的非对称型mzi进行了表征,光谱未发生明显的变化,其峰值与参考波导的光谱结果接近。此外比较了四种长度与稳定性不一的mzi设计, 通过光谱的er测试结果,可以发现悬臂设计最为脆弱的mzi发生了损坏(下图中的b),而其他三种类型仍然可以得到较大的er值。测试结果如下图所示,
密封后的相移器,其相位的稳定性得到大幅提高,3db带宽从213khz提高到776khz,如下图所示,在36v直流电压驱动下,可实现pi/2的相位变化。
为了表征密封盖的气密性,研究人员采用光学表面光度计(optical profilometer)测量si盖板的弯曲程度,密封盖中心区域偏移最大,为0.63um,该结果对应密封盖内的气压为几毫巴(mbar), 测试结果如下图所示,
对于来自4颗die(2颗在wafer中心,2颗在wafer边缘)的128个cavity,115个通过了密封性测试,良率接近90%。将该wafer放置21天后重新测试,气密性依然满足要求。此外在wafer切割后,气密性没有发生变化。以上的这些验证试验,都证实了该密封方法的可靠性。
密封盖的形状也可以根据需要进行灵活设计,不局限于矩形,可以为l型、三角形等。下图为甜甜圈型盖板的设计,盖板两侧放置了金属pad进行电学特性的测试。
由于硅盖板只有25um高,而一般的bump高度为50um左右,因此可以在密封好的mems硅光芯片上flip-chip其它芯片。下图为glass interposer倒装在该硅光芯片的示意图,芯片中共包含599个bump。
简单总结一些,kth研究组通过金属bonding的方法,给mems光波导戴上了帽子,形成密封盖,使得悬臂波导不再受空气扰动的影响,稳定性与良率大大提高,涉及到的工艺步骤也相对简单,非常巧妙。
通过一系列的可靠性验证试验,也证实了该方法的鲁棒性。mems型相移器的优势是尺寸短,没有静态功耗,虽然带宽只有几百khz, 但它仍然是大规模集成光路中有潜力的基础元器件。
lightmatter公司此前在hotchips 2019上展示了其基于mems型光波导的光计算系统,业界当时对其封装方案和系统的可靠性存在一些质疑。kth的这一晶圆级气密封装方案无疑为mems型硅光芯片的实用化打开了一扇大门,下一步应该会验证电芯片flip-chip到气密封装后的mems硅光芯片。

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