LCD光刻胶需求快速增长，政策及国产化风向带动国产厂商发展
光刻胶按应用领域分类，大致分为lcd光刻胶、pcb光刻胶（感光油墨）与半导体光刻胶等。按照下游应用来看，目前lcd光刻胶占比26．6%，刻胶占比24．5%，半导体光刻胶占比24．1%，pcb光其他类光刻胶占比24．8%。
虽然国产替代进度最快的pcb光刻胶国产化率已达到50%，但技术门槛更高的 lcd 光刻胶国产化率在10%左右，进口替代空间巨大。
光刻胶呈现寡头垄断的局面
光刻胶行业具有极高的行业壁垒，因此在全球范围其行业都呈现寡头垄断的局面。
从全球市场份额来看，主要由日本、美国、韩国企业所把控。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额，行业集中度极高。其中，日本jsr、东京应化、日本信越与富士电子材料市占率合计达到72%。
光刻技术随着ic集成度的提升而不断发展。为了满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求，半导体用光刻胶通过不断缩短曝光波长以提高极限分辨率，世界芯片工艺水平目前已跨入微纳米级别，光刻胶的波长由紫外宽谱逐步至g线（436nm）、i线（365nm）、krf（248nm）、 arf（193nm）、f2（157nm），以及最先进的euv（《13．5nm）线水平。krf和arf光刻胶被日本、美国企业垄断。日本在这一领域的控制力极大增强了日本整体的半导体实力。
目前我国半导体领域的g线、i线光刻胶基本可以满足自给。而更为高端的krf、arf光刻胶，我国则几乎全部依赖进口，国产化率存在极大的提升空间。
目前，芯片制造商使用的量产的最高端光刻胶为曝光波长193nm的arf光刻胶。仅有海外企业能够达到arf及以上的技术水平。
在arf光刻胶方面，jsr、信越化学、东京应化、住友化学、富士胶片、陶氏化学分别占据24%、23%、20%、15%、8%、4%的市场份额。
在krf光刻胶方面，东京应化、信越化学、jsr、陶氏化学、韩国东进、富士胶片分别占据35%、22%、18%、11%、6%、5%的市场份额。
在euv光刻胶方面，具备专利布局的前十大企业中，日本公司占有七席，并且富士胶片、信越化学、住友化学排名前三位，其专利申请数量大幅领先其他公司，体现日本在euv光刻胶领域具备十分明显的技术优势。
lcd光刻胶需求快速增长
全球面板市场稳步上升，产能向大陆转移，催生 lcd 光刻胶需求增长。
据 ihs 2019年 6 月发布的数据，2019 年全球 tft-lcd 和 oled 整体平板显示容量约为 3．34 亿平方米，2023 年有望上升至 3．75 亿平方米，其中，tft-lcd 面板市场容量约为 3．09 亿平方米，未来需求将稳步增长。
全球 lcd 面板产业经历了“美国研发—日本发展—韩国超越—台湾崛起—大陆发力”的过程，美国最早研发出 lcd 技术后，80 年代后期由日本厂商将 lcd 技术产业化，全球面板产业几乎被日本企业垄断。
90 年代后，韩国和中国台湾面板厂快速崛起，开始长时间主导市场，大陆面板自 2009 年开始发力，以京东方为首的大陆面板厂商产能持续翻倍增长。据 ihs 数据，2018 年大陆 lcd 产能占有率已达到 39%，预计 2023 年大陆产能将占全球总产能的 55%。
政策及国产化风向带动国产厂商发展
半导体材料和半导体设备作为半导体产业链的最上游，对于产业的支撑意义明显，具有同等重要的战略意义。2020年至2022年是中国大陆晶圆厂投产高峰期，以长江存储，长鑫存储等新兴晶圆厂和以中芯国际，华虹为代表的老牌晶圆厂正处于产能扩张期，未来3年将迎来密集投产。根据国内晶圆厂的建设速度和规划，预计2022年国内半导体光刻胶市场是2019年的两倍，半导体光刻胶市场将迎来高速发展期。
目前国内在 lcd光刻胶领域有布局的国产厂商主要有飞凯材料、永太科技、苏州瑞红（晶瑞股份 100%控股）和北京科华微电子（南大光电持股 31．39%）。
飞凯材料已经在高端的湿膜光刻胶领域通过下游厂商验证，cf光刻胶已经通过华星光电验证。
晶瑞股份（苏州瑞红）承担了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目并通过验收，在国内实现了i线（365nm）光刻胶量产，并在中芯国际、扬杰科技、士兰微等知名半导体厂通过了单项测试和分片测试，取得了客户的产品认证。
同时，子公司苏州瑞红研发的 rzj-325 系列光刻胶、高粘附性光刻胶rfj-210g、tft-array 光刻胶部分产品、厚膜光刻胶 rzj-t3520 等光刻胶产品也取得重大进展将逐步推向市场。
南大光电2019年半年报中披露公司正在自主创新和产业化的193nm光刻胶项目，已获得国家02专项“193nm光刻胶及配套材料关键技术研究项目”和“arf光刻胶开发和产业化项目”的正式立项，先后共获得中央财政补贴15，101．65万元，地方配套5，000万元。
为促进我国光刻胶产业的发展，国家02重大专项给予了大力支持。今年5月，02重大专项实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组通过了“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目的任务验收和财务验收。
据悉，经过项目组全体成员的努力攻关，完成了euv光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发，达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。项目共申请发明专利15项（包括国际专利5项），截止到目前，共获得授权专利10项（包括国际专利授权3项）;培养了博士研究生9名，硕士研究生1名。
根据测算，伴随lcd产业中心的转移，叠加材料国产化的大趋势，我国lcd光刻胶市场规模及国产化率有望逐步提升，预计2019-2023年，我国lcd光刻胶市场规模将会从40亿元提升到69亿元，4年 carg14．6%;lcd光刻胶材料的国产化率有望从5%快速提升至40%，国产材料龙头有望充分受益。在lcd光刻胶领域，随着国内技术的不断突破，在产业驱动和政策支持下，预计龙头企业将优先抢占国产化的市场空间，有望享受全球产业转移下丰厚的业绩回报。
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从全球市场份额来看，主要由日本、美国、韩国企业所把控。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额，行业集中度极高。其中，日本jsr、东京应化、日本信越与富士电子材料市占率合计达到72%。
光刻技术随着ic集成度的提升而不断发展。为了满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求，半导体用光刻胶通过不断缩短曝光波长以提高极限分辨率，世界芯片工艺水平目前已跨入微纳米级别，光刻胶的波长由紫外宽谱逐步至g线（436nm）、i线（365nm）、krf（248nm）、 arf（193nm）、f2（157nm），以及最先进的euv（《13．5nm）线水平。krf和arf光刻胶被日本、美国企业垄断。日本在这一领域的控制力极大增强了日本整体的半导体实力。
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目前，芯片制造商使用的量产的最高端光刻胶为曝光波长193nm的arf光刻胶。仅有海外企业能够达到arf及以上的技术水平。
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在krf光刻胶方面，东京应化、信越化学、jsr、陶氏化学、韩国东进、富士胶片分别占据35%、22%、18%、11%、6%、5%的市场份额。
在euv光刻胶方面，具备专利布局的前十大企业中，日本公司占有七席，并且富士胶片、信越化学、住友化学排名前三位，其专利申请数量大幅领先其他公司，体现日本在euv光刻胶领域具备十分明显的技术优势。
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据 ihs 2019年 6 月发布的数据，2019 年全球 tft-lcd 和 oled 整体平板显示容量约为 3．34 亿平方米，2023 年有望上升至 3．75 亿平方米，其中，tft-lcd 面板市场容量约为 3．09 亿平方米，未来需求将稳步增长。
全球 lcd 面板产业经历了“美国研发—日本发展—韩国超越—台湾崛起—大陆发力”的过程，美国最早研发出 lcd 技术后，80 年代后期由日本厂商将 lcd 技术产业化，全球面板产业几乎被日本企业垄断。
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