确保中心机房环境温度正常的温湿度传感器
在当今信息化的时代里，尤其是随着互联网的兴起与快速发展，信息的交换与传播速度越来越快，信息量也越来越大。与此同时中心机房成为了一些公司及相关机构进行数据存储、处理、共享的重要场所，确保机房内服务器或者处理器正常运转对于企业至关重要。由于机房内多为电子设备，环境温湿度会直接影响其工作状况，因此温湿度传感器成为机房环境综合监测系统中必不可少的部分。
现代电子计算设备中使用了大批的各种半导体器件，在进行长时间工作状态下都会发热升温，当温度升高时，各器件的性能就会随之下降。而发热的半导体向空气中释放热量会使环境温度升高，使得自身的散热效果减弱，进一步导致半导体器件温度升高，影响设备正常运作。通过温湿度传感器对环境温度进行检测，当温度过高时启动机房降温措施，确保环境温度正常。此外，机房中的湿度也需要保持在合适的范围内。因为若空气相对湿度过低时，即空气过于干燥时，静电压会显著升高，严重危害设备和人员安全；空气湿度过高时，空气中水蒸气容易在电路表面形成水膜，造成电路和飞弧现象。利用温湿度传感器对环境湿度进行测量，及时控制增湿/除湿系统对空气的湿度进行调节，可以把湿度严格控制在规定的范围内，以保证设备安全正常工作。
霍尼韦尔hih6131-021温湿度传感器是组合在同一个封装内的数字输出式相对湿度 （rh） 和温度传感器，产品具有精度、高长期稳定性好的优点。与同类的湿度传感器需要经历 12 小时 75% rh 的再水合过程（需要在特殊的设备室内完成），才能修正回流温度漂移相比。霍尼韦尔传感器在回流之后也会出现温度漂移，然而，它仅需要在室温条件 （》50% rh） 下进行 5 小时的再水合过程即可，新型霍尼韦尔 hi6131-021温湿度传感器使用激光修正、热固性聚合物电容式传感元件。元件的多层构造可抵御大多数的应用危险，如凝结、污垢、灰尘、油渍及常见的环境化学物质，这有助于提供行业领先的稳定性和可靠性。
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霍尼韦尔hih6131-021温湿度传感器是组合在同一个封装内的数字输出式相对湿度 （rh） 和温度传感器，产品具有精度、高长期稳定性好的优点。与同类的湿度传感器需要经历 12 小时 75% rh 的再水合过程（需要在特殊的设备室内完成），才能修正回流温度漂移相比。霍尼韦尔传感器在回流之后也会出现温度漂移，然而，它仅需要在室温条件 （》50% rh） 下进行 5 小时的再水合过程即可，新型霍尼韦尔 hi6131-021温湿度传感器使用激光修正、热固性聚合物电容式传感元件。元件的多层构造可抵御大多数的应用危险，如凝结、污垢、灰尘、油渍及常见的环境化学物质，这有助于提供行业领先的稳定性和可靠性。
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