Si/SiC和GaN HEMT器件的结构比较!

碳化硅(sic)技术改进了各种应用中的多个系统和子系统组件。与硅相比,碳化硅通过更快的开关、在整个温度范围内的平坦rds(on)和更好的体二极管性能表现出更好的功率密度和效率。
本文将探讨wolfspeed的sic组件如何使离线式smps系统在效率、功率密度和整体系统成本方面表现出色,尤其是与硅和氮化镓器件相比。
smps趋势及硅、碳化硅和氮化镓的比较
离线式smps通常是acdc电源系统,例如数据中心,电信基站和电力挖掘系统。数据中心消耗了所有发电量的10%左右,如果实施sic仅节省1%的能源,则相当于三座核电站(每座核电站的运行功率为1吉瓦)。
与行业标准的第1代数据中心电源架构相比,第2代从交流输入中移除了不间断电源和配电单元,将直流母线从12 v更改为48 v,并在直流母线(48 v)上增加了电池备份系统。由于这些变化,整体系统效率提高到85%,节省了相当于27座核电站的能源。
包含ocp2.3或he电信整流器的第二代数据中心的典型规格如下:
输入电压范围:180-305 vac
输出功率:3,000 w
输出电压:48 v
效率:峰值为97.5%,96%至5%负载时为30.100%
保持时间:20 ms
工作温度范围:0°c至55°c
效率会因负载百分比而异,但一般来说,功率因数校正(pfc)需要99%以上的效率,dc/dc转换器系统需要超过98.5%的效率。为了满足这些高效率和功率密度的新要求,电源设计人员必须密切关注拓扑和功率组件。这可以通过比较包括硅、碳化硅和硅基氮化镓在内的技术来完成。
在比较si或sic mosfet与gan高电子迁移率晶体管(hemt)之间的物理差异时,可以在图1中观察到gan hemt的横向结构需要增加其尺寸以适应更高的功率和不同形式的电流,而硅的结构是垂直的。作为类比,这就像将向上推动电流的垂直“软管”与水平流动电流的“雨水沟”进行比较。
此外,gan hemt在过压条件下不会雪崩,这可能导致灾难性故障。它们的短路能力也非常差(几百纳秒),它们的晶格热膨胀系数不匹配会导致缺陷。
在分析rds(on)相对于温度的行为时,可以看到sic优于其他技术。此外,大多数数据手册都标明rds(on)在室温(25°c)下,但设计人员必须规划实际结温可能在120°c至140°c之间变化。值得注意的是,rds(on)与i2r损耗(传导损耗)相关,这意味着sic的60 mω额定值相当于si和gan的40 mω。
为了更量化地了解sic与si和gan-on-si的比较,展示了在采用sic元件时温度特性、电压和尺寸/封装如何改善。
这些技术之间还可以比较其他几个参数,例如vgs、结温tj、rds(on)、电容和开关期间的恢复。虽然sic并非在每个类别中都胜出,但它确实在大多数类别中都大放异彩。在温度方面,sic具有最高的tj,max,这导致更好的整体鲁棒性,但并没有最低的热结电阻(rth)。然而,在大多数工作温度下,sic的rds(on)是最低的,这意味着更低的损耗和更高的效率,允许最大的功率传输。由于gan没有雪崩能力,sic的单脉冲雪崩能量为其提供了更好的鲁棒性和保护性。更重要的是,更高的vgs,th可以提高抗噪性并且更容易驾驶。在开关性能方面,gan可以提供最低的qrr和电容,但sic紧随其后。这一点很重要,因为它关系到开关损耗和效率。一般来说,si易于驱动,但无法与开关性能和损耗竞争。gan在开关性能方面大放异彩,但缺乏鲁棒性,sic提供了一种全面的稳健效率解决方案,具有出色的热性能和最小的损耗。
pfc拓扑和组件选择
传统上,pfc技术需要带有lc元件的桥式整流器,因此配置简单,但体积庞大且笨重。当今的工业采用有源升压pfc拓扑结构,其中包括整流器和升压元件。这种配置很受欢迎,并以合理的成本提供足够的性能,但要达到最新的效率标准。业界目前正在发展使用无桥图腾柱pfc设计,以降低损耗并提高功率密度。这就是sic mosfet可以大大提高效率并满足未来设计人员需求的地方。
总而言之,用于离线smps系统的80plus钛金需要非常高的效率,而sic提供了额外的鲁棒性因素,从而实现了高可靠性应用。sic可提供超过99%的效率,在整个温度范围内具有明显的rds(on)优势、更高的结温额定值、雪崩能力以及行业标准占位面积,使其成为图腾柱pfc和llc转换器应用中使用的功率器件的最佳选择。


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